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- 掩膜版是什么？ - 知乎
这层光阻剂在曝光（一般是紫外线）后可以被特定溶液（显影液）溶解。使特定的光波穿过光掩膜照射在光刻胶上，可以对光刻胶进行选择性照射（曝光）。然后使用前面提到的显影液，溶解掉被照射的区域，这样，光掩模上的图形就呈现在光刻胶上。
- 光刻所用的掩模板是怎么制作的? - 知乎
掩模板一般工厂叫做光罩或者mask or reticle是用光掩模坯料制成的。掩模坯料由用作玻璃基板的精细抛光的石英玻璃和沉积在其顶部以形成遮光层的铬原子制成。然后使用光敏树脂涂层覆盖掩模毛坯的表面。然后使用电子束将电路图案写入到掩模上。
- 光刻所用的掩模板是怎么制作的? - 知乎
掩模版是晶圆厂生产晶圆必备核心材料，是和晶圆厂工艺紧密结合的，因此一般大型晶圆厂都会有配套的光罩厂，尤其是在28nm及以下的先进制程方面，制造工艺复杂且难度大，涉及到各家晶圆厂核心机密，因此所用的掩模版大部分由自己的专业工厂内部生产，如
- 光刻板(掩模板\光罩板)有哪些种类，以及他们的主要应用场景 . . .
由于掩模材料、抗蚀剂、制作工艺、化学清洗和灰尘等方面的原因，都可能在光掩模上 产生各种缺陷，如图 所示。 随着大规模集成电路制作技术和工艺的发展，集成电路特征尺 寸设计向着亚微米、亚半微米甚至四分之一微米发展，图形特征尺寸越来越细，越来越密集。
- 求问世界上能做光掩膜坯photomask blanks的企业有哪些？
3 7 光掩模坯料行业集中度、竞争程度分析 3 7 1 光掩模坯料行业集中度分析：2022年全球Top 5生产商市场份额 3 7 2 全球光掩模坯料第一梯队、第二梯队和第三梯队生产商（品牌）及市场份额 3 8 新增投资及市场并购活动 4 全球光掩模坯料主要地区分析
- 知乎盐选 | 3. 2 光刻光学成像理论
当掩模上透光区和阻光区的宽度远大于照明光的波长时，可以利用薄掩模近似来分析掩模的衍射近场分布，即假设掩模上图形区域（图 3-9 中的铬层或相移层）的厚度可近似为 0，此时掩模的近场分布可以表示为掩模结构的透过率函数与入射电场的乘积。
- 光掩膜版 - 知乎
掩模上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上。掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。在投影式光刻机中，掩模作为一个光学元件位于会聚透镜（condenser lens）与投影透镜（projection lens）之间，它并不和晶圆有直接接触。 掩模版制造
- 目前我国光掩膜版领域最难突破的一点是什么？ - 知乎
国内知名的可以做光掩膜版的还有深圳路维，现在应该叫成都路维，目前在国内可以做到8 5代的光掩膜版。 小尺寸石英做得比较好的有文中提到的清溢光电，还有就是龙图光电。
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